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日本日立Hitachi光電直讀光譜儀

簡要描述:日本日立Hitachi光電直讀光譜儀OE-750/OE-720 臺式/落地式直讀光譜儀是高性價比的金屬分析,OE720和OE750是突破性的OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的全部光譜,并具有同類產(chǎn)品中較低的檢出限。

  • 產(chǎn)品型號:OE750/OE720
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-05-20
  • 訪  問  量:359

詳細(xì)介紹

品牌Hitachi/日立儀器種類臺式
激發(fā)方式電弧價格區(qū)間60萬-100萬
檢測器類雙檢測器(PMT+CCD)應(yīng)用領(lǐng)域電子,航天,汽車,電氣,綜合



日本日立Hitachi光電直讀光譜儀OE-750/OE-720

簡介

OE720和OE750是突破性的OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬*元素的全部光譜,并具有同類產(chǎn)品中較低的檢出限。 由于行業(yè)法規(guī)日益嚴(yán)格,供應(yīng)鏈變得復(fù)雜以及更多地使用廢料作為基礎(chǔ)材料,因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質(zhì)和痕量元素控制在下限ppm范圍內(nèi)。在過去,這一級別的OES對許多企業(yè)而言是遙不可及。日立分析儀器推出的OE系列可改變這一現(xiàn)狀。 日立直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素,并識別金屬中含量較低的雜質(zhì)、痕量元素和關(guān)心元素,OE750還覆蓋了罕見的應(yīng)用,例如銅中的氧氣和鈦中的氧氣、氮氣和氫氣。 OE系列的測量速度快、可靠性高且運營成本低,可進(jìn)行高性價比的日常分析和全面質(zhì)量控制,其性能可與更大、更貴的光譜儀媲美。 *根據(jù)應(yīng)用,有關(guān)更多詳細(xì)信息,請索取我們的應(yīng)用報告。

日本日立Hitachi光電直讀光譜儀


日本日立Hitachi光電直讀光譜儀OE-750/OE-720技術(shù)參數(shù)

  • 類型

  • 光學(xué), 火花光發(fā)射

  • 應(yīng)用領(lǐng)域

  • 用于實驗室, 用于氣體分析, 用于分析金屬, 用于冶金產(chǎn)業(yè), 用于鑄造車間, 用于金屬加工

  • 配置

  • 臺式

  • 其他特性

  • 高解析度, 高精度

  • 波長

  • 最多: 766 nm

    最少: 119 nm

  • 長度

  • 76 cm
    (29.92 in)

  • 寬度

  • 43 cm
    (16.93 in)

  • 高度

  • 54 cm, 125 cm
    (21.26 in, 49.21 in)

日本日立Hitachi光電直讀光譜儀


光學(xué)系統(tǒng)

• LightWing 技術(shù): Paschen-Runge裝置的多CMOS光學(xué)系統(tǒng)和優(yōu)化的像素分辨率
• 焦距: 400 mm
• 波長: OE720: 174-670* nm / OE750: 119-670* nm (*按需求可至766 nm)
• 波長實時校準(zhǔn)

電源
• E100 - 240V AC 50/60 Hz
• 最大功率: 430 W
• 待機(jī)功率 45 W (光源打開時功率 : 50 W)

產(chǎn)品優(yōu)勢
•覆蓋所有元素,以低檢出限進(jìn)行完整的金屬分析
•高光學(xué)分辨率,可控制雜質(zhì)和痕量元素
•出色的長期穩(wěn)定性、精度和準(zhǔn)確性
•OE750:分析氣體(鈦中的氫和氧,銅中的氧)
•購買價格和運行成本合理,性能可與更昂貴的分析儀相提并論
•包括全面的金屬數(shù)據(jù)庫,可快速,輕松地識別牌號
•可選的進(jìn)料校正軟件可實現(xiàn)較佳過程控制
•與基于云的數(shù)據(jù)管理的連接

應(yīng)用行業(yè)
• 過程的質(zhì)量控制和冶煉的驗證:分析模式/牌號鑒定
• 為所有相關(guān)的合金、殘留物、處理、痕量元素和雜質(zhì)元素提供較低檢出限
• 鐵:合金、鑄鐵,氮含量低至10 ppm (僅OE750)
• 鋁:合金、鑄造合金、鍛造合金……
• 銅:青銅、黃銅、白銅……
• 鎳:哈氏合金、Inconel合金、蒙乃爾合金,氮元素低至20 ppm
• 鈦:純鈦、鈦6-4、鈦8-錳,包括氫、氧、氮等氣體元素 (僅OE750)
• 鎂、鈷、鉛、錫、鋅合金、焊料及其他

日本日立Hitachi光電直讀光譜儀



新型OE750是一款突破性的新型OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的全部光譜,并具有同類產(chǎn)品中zui*低的檢出限。


由于行業(yè)法規(guī)日益嚴(yán)格,供應(yīng)鏈變得復(fù)雜以及更多地使用廢料作為基礎(chǔ)材料,因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質(zhì)和痕量元素控制在zui*低ppm范圍內(nèi)。在過去,這一級別的OES對許多企業(yè)而言是遙不可及。日立分析儀器推出的新型OE750可改變這一現(xiàn)狀。


這款直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素,并識別金屬中含量極低的雜質(zhì)、痕量元素和處理元素,如鋼中的氮。 OE750的測量速度快、可靠性高且運營成本低,可進(jìn)行高性價比的日常分析和全面質(zhì)量控制,其性能可與更大、更貴的光譜儀媲美。


為什么選擇OE750?

1. 值得信賴的結(jié)果在同類產(chǎn)品中控制雜質(zhì)和痕量元素的光學(xué)分辨率zui*高。

2. L綜合成本低負(fù)擔(dān)得起的購買和運行成本,提供更貴分析儀器所具備的性能。

3. 保持運行不間斷設(shè)計可靠,維護(hù)和標(biāo)準(zhǔn)化要求極低。

4. 支持連續(xù)生產(chǎn)分析速度快,啟動時間短,可快速反饋熔液質(zhì)量。


只需一臺價格合理的OE750設(shè)備,就能提供快速全面的金屬質(zhì)量分析,滿足您所有的需求。




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